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响应面法优化黑曲霉产葡萄糖氧化酶的发酵条件

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  • 更新日期:2016-12-07 18:41
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 响应面法优化黑曲霉产葡萄糖氧化酶的发酵条件*
        李瑞瑞 刘佃磊 杨晴 郝琼 姜凯凯  李玉武**
(齐鲁工业大学食品与生物工程学院济南250353
山东省微生物工程重点试验室济南250353)
 
摘要运用响应面法对黑曲霉(Aspergillus niger)产葡萄糖氧化酶发酵条件进行了优化。根据单因素试验结果,利用Plackett-Burman进行两因素两水平设计对影响其产酶因素进行评估并筛选出具显著效应的3种因素:葡萄糖、MgS04 } 7 HZ 0和转速。用最陡爬坡试验逼近以上三种因素的最大响应面区域后,采用Box-Behnken进行三因素三水平的设计以及响应面分析,获得最佳产葡萄糖氧化酶的培养基和培养条件组成。结果表明,发酵黑曲霉的最佳产酶条件为:葡萄糖241g/L,NaN03 3g/L, K2HPO4 1g/L, FeS04 0. 01g/L, KCl 0. 5 g/L, MgS04·7H20 0. 36g/L,转速168 r/min,温度30 C。在此条件下进行产酶重复试验5次,酶活力为227. 93 U/g,比优化前提高了95.9%。
关键词黑曲霉 葡萄糖氧化酶 Plackett-Burman 设计响应面法
中图分类号p819
 
 
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